1、拋光必須在清潔無(wú)塵的室內進(jìn)行。因為硬塵粒會(huì )污染研磨材料，損害已接近完成的模具表面。
2、每個(gè)拋光工具只使用一個(gè)級別的拋光鉆石膏，并存放在防塵或密封的容器內。
3、當要轉換更細一級的砂號時(shí)，要注意該級砂號是否完全覆蓋上一級(較粗)砂紋，必須清洗雙手和工件。
4、開(kāi)始拋光時(shí)要先處理角落、邊角和圓角等較難拋光的地方。
5、處理尖角及邊角時(shí)應特別小心，注意不要形成圓角或圓邊，應盡量采用較硬的拋光工具進(jìn)行模具的研磨和油石打磨。
拋光機由底座、拋盤(pán)、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì )影響終極觀(guān)察到的組織，即不會(huì )造成假組織。同時(shí)還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑方向往返移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。電念頭固定在底座上，固定拋光盤(pán)用的錐套通過(guò)螺釘與電念頭軸相連。為了達到粗拋的目的，要求轉盤(pán)轉速較低，最好不要超過(guò)500r/min；拋光時(shí)間應當比去掉劃痕所需的時(shí)間長(cháng)些，由于還要去掉變形層。拋光織物通過(guò)套圈緊固在拋光盤(pán)上，電念頭通過(guò)底座上的開(kāi)關(guān)接通電源起動(dòng)后，便可用手對試樣施加壓力在滾動(dòng)的拋光盤(pán)長(cháng)進(jìn)行拋光。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不外也應當盡可能??；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使超聲波模具拋光機拋光損傷減到最小。
拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機器不使用時(shí)落在拋光織物上而影響使用效果。解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。
拋光機操縱的樞紐是要想法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。精拋時(shí)轉盤(pán)速度可適當進(jìn)步，拋光時(shí)間以?huà)伒舸謷伒膿p傷層為宜。
